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新芝的高頻超聲清洗機

[導讀]高頻超聲波清洗機的去污能力

對于像硅片表面直徑小至零點幾微米的超微污物粒子,常規的超聲波清洗器已無能為力,即使再增加功率密度也無濟于事。近來發展了一種兆赫級的高頻超聲清洗技術,由于其頻率高,空化效應已不起作用,清洗的關鍵因素不是氣泡,而是高頻壓力波的擦洗作用,其對污物的去除率接近100%。高頻清洗近來發展較快,主要用于超大規模集成電路芯片上的污物清洗,以及硅晶片、陶瓷、光掩模等特種污物的清洗。

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